【Kaiyun·開云，新聞】身為全球第二大經(jīng)濟體，我國通過多年的發(fā)展，在航天、高鐵等許多領(lǐng)域都處在全球領(lǐng)先的行列，但是卻在先進芯片制造上不得不依賴歐美國家，這主要是因為我國在光刻機方面存在著較大短板。不過今天（2月7日）卻傳來了一個令人振奮的消息，由上海微電子生產(chǎn)的我國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機正式交付給用戶，這也標(biāo)志著上海微電子邁出了我國在光刻機制造領(lǐng)域的重要一步。

上海微電子所生產(chǎn)的國產(chǎn)光刻機

　　在去年9月份時，上海微電子官方宣布將推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。該光刻機可滿足0.8μm（800nm）分辨率光刻工藝需求，極限分辨率可達0.6μm（600nm），通過升級運動、量測和控制系統(tǒng)，套刻精度提升至≤100nm，并能保持長期穩(wěn)定性。

　　由于美國對華為麒麟芯片的封鎖，近年來國內(nèi)芯片制造和封裝成為了國家重點發(fā)展的領(lǐng)域。雖然當(dāng)前我國在最頂尖的EUV光刻機的制造上仍有著不小的困難，但隨著我國科研水平的不斷提升，相關(guān)關(guān)鍵技術(shù)的突破只是時間問題。此前，全球最大的光刻機生產(chǎn)商ASML總裁就曾擔(dān)心，一旦中國成功研發(fā)出EUV光刻機，ASML不僅僅將丟失所有中國市場，其在全球市場接近壟斷的地位也將被打破。

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